蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 8寸單片式清洗設(shè)備專為半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)計(jì)，采用獨(dú)立腔體結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)單片獨(dú)立處理，避免交叉污染。設(shè)備集成化學(xué)清洗（RCA工藝）、兆聲波空化、DIW噴淋及IPA干燥技術(shù)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-03 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)FOUP清洗機(jī)專為半導(dǎo)體制造中的晶圓傳輸容器（FOUP/FOSB）設(shè)計(jì)，通過(guò)高精度清洗技術(shù)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化去污與干燥，確保晶圓存儲(chǔ)環(huán)境的潔凈度。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-03 在線留言
詳細(xì)摘要： BOE硅片清洗機(jī)專為半導(dǎo)體、光伏及光學(xué)玻璃領(lǐng)域設(shè)計(jì)，通過(guò)化學(xué)腐蝕與物理清洗結(jié)合，高效去除硅片表面污染物（如氧化硼、顆粒、金屬殘留等）。設(shè)備支持自動(dòng)化酸洗、水洗、...
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詳細(xì)摘要： 12寸晶圓單片清洗機(jī)專為半導(dǎo)體制程設(shè)計(jì)，采用單片獨(dú)立清洗模式，避免交叉污染，確保晶圓表面潔凈度達(dá)納米級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備支持多種化學(xué)藥液（如HF、H?O?等）與兆聲波聯(lián)...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-03 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓片清洗設(shè)備專為半導(dǎo)體制程設(shè)計(jì)，集成化學(xué)濕法與超聲清洗技術(shù)，高效去除晶圓表面微粒、氧化物及殘留污染物。設(shè)備支持單片或批量清洗，兼容RCA標(biāo)準(zhǔn)工藝，配備高精度噴...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-06-03 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅片清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染物及氧化層等雜質(zhì)，確保芯片性能與良率。其核心原理包括物理清洗和化學(xué)清洗。設(shè)備類...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 單片晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，專用于單片晶圓的高效、精準(zhǔn)清洗。通過(guò)化學(xué)或物理方法，去除晶圓表面的污染物，如塵埃、油脂和氧化物等，確保晶圓表面的純凈度。...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)RCA清洗設(shè)備是半導(dǎo)體、微電子等領(lǐng)域關(guān)鍵的清洗裝置?；赗CA清洗原理，能高效去除硅片等表面的有機(jī)物、顆粒及金屬污染物。集成自動(dòng)化控制，可實(shí)現(xiàn)多道清洗工序...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-29 在線留言
詳細(xì)摘要： Wafer自動(dòng)清洗機(jī)是專為晶圓清洗設(shè)計(jì)的高效設(shè)備。通過(guò)精確控制的化學(xué)試劑、去離子水和特殊氣體，利用物理和化學(xué)作用去除晶圓表面的雜質(zhì)、顆粒、有機(jī)物和氧化物等。具有...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅酸表面蝕刻機(jī)專為硅片等半導(dǎo)體材料設(shè)計(jì)。它利用特定的蝕刻劑或物理作用，精準(zhǔn)去除硅片表面的材料。具備高精度蝕刻能力，可精確控制蝕刻深度和范圍，滿足微小圖案加工需求...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 掩模板清洗機(jī)是一種專業(yè)用于清洗半導(dǎo)體掩模板的設(shè)備。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，掩模板上的微小污染物都會(huì)對(duì)芯片的精度和質(zhì)量產(chǎn)生重大影響。該清洗機(jī)通過(guò)高壓噴淋、化學(xué)清洗等方...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法EKC清洗機(jī)是半導(dǎo)體清洗設(shè)備之一。它基于化學(xué)與機(jī)械作用結(jié)合的原理，利用含氧化劑和酸性物質(zhì)的溶液清洗晶圓表面，溶解雜質(zhì)。液體沖刷與超聲波裝置增強(qiáng)效果。具備高效...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的設(shè)備。它通過(guò)物理和化學(xué)作用，高效去除晶圓表面雜質(zhì)與殘留物。利用噴淋臂、超聲波等技術(shù)，實(shí)現(xiàn)全面清洗，保證晶圓表面潔凈度。設(shè)備具備...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-04 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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