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蘇州芯矽電子科技有限公司


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硅片清洗設(shè)備 芯矽科技專業(yè)廠家定制化設(shè)計

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參   考   價: 10000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式:查看聯(lián)系方式

更新時間:2025-05-29 14:19:55瀏覽次數(shù):50次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:13條

所在地區(qū):江蘇蘇州市

聯(lián)系人:陳 (銷售)

產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 國產(chǎn) 超聲波功率 根據(jù)方案定制w
超聲波頻率 根據(jù)方案定制Hz 界面語言 中文,英文
內(nèi)槽尺寸(長×寬×高) 根據(jù)方案定制mm 清洗槽數(shù) ≥5槽
售后保修期 24個月 外形尺寸(長×寬×高) 根據(jù)方案定制mm
銷售區(qū)域 全國,華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺,海外 重量 根據(jù)方案定制kg
自動化程度 全自動    

硅片清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備,用于去除硅片表面的顆粒、有機物、金屬污染物及氧化層等雜質(zhì),確保芯片性能與良率。其核心原理包括物理清洗和化學(xué)清洗。設(shè)備類型涵蓋濕法清洗臺、單片清洗機及干法清洗設(shè)備。制程中,原子級潔凈度需求推動設(shè)備向自動化、高精度調(diào)控方向發(fā)展,例如集成在線監(jiān)測(顆粒、厚度檢測)與環(huán)保處理系統(tǒng),以適配納米級芯片對表面污染的嚴(yán)苛要求。

詳細介紹

硅片清洗設(shè)備是專為半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)計的高效、高精度清洗系統(tǒng),適用于12英寸及以下硅片的表面污染物去除,涵蓋顆粒、有機物、金屬殘留及氧化層等雜質(zhì)。該設(shè)備集成濕法化學(xué)清洗與干法等離子清洗技術(shù),滿足從傳統(tǒng)制程到納米級芯片的清潔需求,確保硅片表面達到原子級潔凈度,為光刻、蝕刻、沉積等關(guān)鍵工藝提供可靠保障。

核心功能與技術(shù)特點

多模式清洗技術(shù)

濕法清洗:采用酸性(如DHF、SC-1溶液)或堿性化學(xué)液噴淋、超聲波震蕩及刷洗組合,高效去除頑固污染物。

干法清洗:可選配等離子體(O?/CF?/Ar)或紫外臭氧(UV/O?)模塊,實現(xiàn)無損傷、低殘留的有機物分解與表面活化。

兆聲波清洗:高頻兆聲波空化效應(yīng)精準(zhǔn)剝離微小顆粒,避免物理劃傷。

高精度工藝控制

噴射流系統(tǒng):通過噴嘴陣列實現(xiàn)化學(xué)液均勻分布,配合離心旋轉(zhuǎn)確保硅片正反面同步清洗。

溫度與濃度閉環(huán)控制:實時監(jiān)測并調(diào)節(jié)清洗液溫度(±0.5℃)及濃度,保證批次間一致性。

干燥技術(shù):集成離心甩干與惰性氣體(N?)吹掃,杜絕水痕及二次污染。

智能化與自動化

在線檢測系統(tǒng):配備激光顆粒計數(shù)儀、橢偏儀等,實時監(jiān)測硅片表面潔凈度與膜厚變化。

全自動化流程:支持Cassette或Magazine自動上下料,兼容MES系統(tǒng)對接,實現(xiàn)清洗參數(shù)一鍵配置與數(shù)據(jù)追溯。

設(shè)備優(yōu)勢

高效產(chǎn)能:單片清洗周期≤3分鐘,支持每小時≥120片(視工藝而定),適配8英寸/12英寸硅片。

低損傷設(shè)計:非接觸式傳輸與軟刷材料(如PVA刷)減少表面劃痕,適用于薄片、翹曲片清洗。

環(huán)保節(jié)能:化學(xué)液循環(huán)過濾系統(tǒng)降低耗液量,廢液分類回收率達90%,符合RoHS環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

靈活定制:可根據(jù)客戶需求擴展高溫硫酸清洗(SPM)、氣相腐蝕(如HF氣相)等模塊。

關(guān)鍵詞:清洗設(shè)備

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