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蘇州芯矽電子科技有限公司
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地蘇州市
聯(lián)系方式:陳查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間:2025-06-03 13:57:58瀏覽次數(shù):49次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 機(jī)床商務(wù)網(wǎng)產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 超聲波功率 | 自定義w |
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超聲波頻率 | 自定義Hz | 界面語(yǔ)言 | 中文,英文 |
內(nèi)槽尺寸(長(zhǎng)×寬×高) | 自定義mm | 清洗槽數(shù) | ≥5槽 |
售后保修期 | 24個(gè)月 | 外形尺寸(長(zhǎng)×寬×高) | 自定義mm |
銷售區(qū)域 | 全國(guó),華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺(tái),海外 | 重量 | 自定義kg |
自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) |
BOE硅片清洗機(jī)專為半導(dǎo)體、光伏及光學(xué)玻璃領(lǐng)域設(shè)計(jì),通過(guò)化學(xué)腐蝕與物理清洗結(jié)合,高效去除硅片表面污染物(如氧化硼、顆粒、金屬殘留等)。設(shè)備支持自動(dòng)化酸洗、水洗、預(yù)脫水及烘干流程,兼容182×182mm等多種硅片尺寸,適用于TOPCON工藝路線下的PSG或BSG去除。
BOE硅片清洗機(jī)是一種專用于半導(dǎo)體、光伏及光學(xué)玻璃等領(lǐng)域的高精度表面處理設(shè)備,主要通過(guò)化學(xué)腐蝕與物理清洗結(jié)合的方式,去除硅片表面的氧化硼(BSG/PSG)、顆粒、金屬殘留等污染物。以下是其核心功能與技術(shù)特點(diǎn)的綜合介紹:
核心功能與工藝原理
化學(xué)腐蝕
基于氟化物溶液(如HF酸)與氧化硼的反應(yīng),生成可溶性硼酸,實(shí)現(xiàn)薄膜剝離。腐蝕液溫度精確控制在40±2℃,通過(guò)循環(huán)流動(dòng)設(shè)計(jì)(內(nèi)槽與溢流槽聯(lián)動(dòng))確保濃度均勻,避免局部過(guò)蝕。
支持自動(dòng)補(bǔ)液系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)并調(diào)節(jié)藥液濃度,保障工藝穩(wěn)定性。
物理清洗輔助
超聲波或兆聲波技術(shù)增強(qiáng)微小顆粒(<0.1μm)的剝離效果,減少機(jī)械刷洗對(duì)硅片的損傷。
多槽聯(lián)動(dòng)設(shè)計(jì)(酸洗→水洗→預(yù)脫水→烘干),單片清洗周期≤5分鐘,兼容批量處理(4/6籃配置),提升產(chǎn)能。
干燥技術(shù)
采用IPA(異丙醇)蒸干或Marangoni干燥法,避免水痕殘留,適用于低K介質(zhì)晶圓。
技術(shù)參數(shù)與設(shè)備特性
適用工藝:TOPCON路線下的BSG/PSG去除、光刻膠剝離、蝕刻后清洗等。
硅片兼容性:支持182×182mm、18X-230mm等多種尺寸,碎片率<0.01%(硅片厚度≥130μm)。
自動(dòng)化能力:支持MES/RFID對(duì)接,可選配在線稱重、激光粒子計(jì)數(shù)等功能,實(shí)現(xiàn)工藝數(shù)據(jù)追溯與智能化控制。
環(huán)保與成本優(yōu)化:藥液回收率≥90%,降低耗材消耗;低能耗干燥技術(shù)減少碳足跡。
應(yīng)用場(chǎng)景
半導(dǎo)體制造:用于CVD后氧化層去除、金屬污染清洗,保障芯片良率。
光伏領(lǐng)域:太陽(yáng)能電池片制絨工藝中的硼硅玻璃(BSG)去除,提升光電轉(zhuǎn)換效率。
光學(xué)玻璃加工:觸摸屏玻璃基材清洗,防潛傷設(shè)計(jì)避免劃痕。
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