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INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀

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  • INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀

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  • 型號(hào) INF450-LP-WM
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 成都市

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更新時(shí)間:2022-08-26 16:21:02瀏覽次數(shù):1194

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

INF450-LP-WM激光平面數(shù)字干涉儀產(chǎn)品型號(hào):INF450-LP-WM成像質(zhì)量良好,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔臥式結(jié)構(gòu),雙端口測(cè)量操作方便,使用簡(jiǎn)單波長(zhǎng)調(diào)諧相移解相分析系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

  • 用途
  • 技術(shù)參數(shù)

1、雙端口檢測(cè);
2、大口徑元件面形檢測(cè);
3、測(cè)量光學(xué)元件的材料均勻性;
4、平行平板元件多表面測(cè)試;
5、元件面形分析,光學(xué)數(shù)據(jù)處理。

序號(hào)

指標(biāo)名稱

指標(biāo)參數(shù)

1

測(cè)試結(jié)構(gòu)

臥式雙端口;

2

測(cè)試口徑

大端口:有效口徑≥φ450mm;

小端口:有效口徑≥φ100mm;

3

相移方式

QPS波長(zhǎng)調(diào)諧相移或機(jī)械相移解相;

4

測(cè)試光源

波長(zhǎng)調(diào)諧相干光源,λ=632.8nm,相干長(zhǎng)度≥100m;

可選氦氖相干光源,λ=632.8nm用于機(jī)械相移

5

CCD指標(biāo)

可選分辨率1.2K×1.2K或分辨率2.3K×2.3K,

或分辨率3.4K×3.4K

6

φ800mm標(biāo)準(zhǔn)楔形鏡(TF鏡)

標(biāo)準(zhǔn)面面形:PVr優(yōu)于λ/20,中頻誤差PSD1小于0.9nm,進(jìn)口熔石英材料;

7

φ800mm標(biāo)準(zhǔn)反射鏡(RF鏡)

標(biāo)準(zhǔn)反射面面形:PVr優(yōu)于λ/20,中頻誤差PSD1小于0.9nm,進(jìn)口微晶材料;

8

系統(tǒng)傳遞函數(shù)

ITF 0.7 @ 0.4 mm-1φ450mm大端口系統(tǒng));

9

系統(tǒng)精度

系統(tǒng)精度:系統(tǒng)空腔精度PVr優(yōu)于λ/15,中頻誤差PSD1小于0.9nm(φ800mm有效口徑內(nèi));

10

系統(tǒng)重復(fù)性精度

系統(tǒng)重復(fù)性精度:系統(tǒng)RMS重復(fù)性優(yōu)于λ/20002σ);

11

調(diào)焦范圍

調(diào)焦范圍:光瞳調(diào)焦范圍≥±2m

12

ZOOM變焦

1-6X光學(xué)變焦(1.2K

1X光學(xué)變焦,50X數(shù)字變焦(2.3K/3.4K)

13

測(cè)試對(duì)準(zhǔn)方式與角度

測(cè)試對(duì)準(zhǔn)方式與角度:快對(duì)準(zhǔn)與精密對(duì)準(zhǔn)方式,對(duì)準(zhǔn)角度≥±15°/±3°;

14

波長(zhǎng)調(diào)諧相移分析軟件

輸出峰谷值(PV)、標(biāo)準(zhǔn)偏差(RMS)、等高圖、X-Y剖面圖、三維立體圖、干涉條紋圖、MTF(光學(xué)傳遞函數(shù))、PSF(點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)),澤爾尼科多項(xiàng)式分析、賽德?tīng)栂嗖罘治龅龋?/span>

分析軟件可進(jìn)行矩形、橢圓、正方形、圓、多邊形等數(shù)據(jù)分析功能;

平行平板類元件測(cè)試功能(樣品無(wú)需特殊處理),一次干涉條紋數(shù)據(jù)采集可同時(shí)得到,平行平板前表面面形、后表面面形,光學(xué)厚度變化;

具有材料均勻性測(cè)試分析功能;

15

標(biāo)準(zhǔn)反射鏡支撐調(diào)節(jié)

二維手動(dòng)與電控角度調(diào)節(jié),整體結(jié)構(gòu)氣浮大范圍移動(dòng);

16

測(cè)試工裝

兩維角度調(diào)節(jié),一維平移調(diào)節(jié),大范圍氣浮調(diào)節(jié);

17

氣浮隔振平臺(tái)

隔振平臺(tái),尺寸3800mm×1500mm


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