蘇州清芯卓半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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詳細(xì)摘要： 12寸晶圓單片清洗機(jī)專為半導(dǎo)體制程設(shè)計，采用單片獨(dú)立清洗模式，避免交叉污染，確保晶圓表面潔凈度達(dá)納米級標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備支持多種化學(xué)藥液（如HF、H?O?等）與兆聲波聯(lián)...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細(xì)摘要： 單片晶圓清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，專用于單片晶圓的高效、精準(zhǔn)清洗。通過化學(xué)或物理方法，去除晶圓表面的污染物，如塵埃、油脂和氧化物等，確保晶圓表面的純凈度。...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法EKC清洗機(jī)是半導(dǎo)體清洗設(shè)備之一。它基于化學(xué)與機(jī)械作用結(jié)合的原理，利用含氧化劑和酸性物質(zhì)的溶液清洗晶圓表面，溶解雜質(zhì)。液體沖刷與超聲波裝置增強(qiáng)效果。具備高效...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-03-04 在線留言
詳細(xì)摘要： SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-12-08 在線留言
詳細(xì)摘要： SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細(xì)摘要： SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機(jī)：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細(xì)摘要： LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細(xì)摘要： LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細(xì)摘要： NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-16 在線留言
詳細(xì)摘要： NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊...
產(chǎn)品型號：所在地：國外更新時間：2022-11-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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