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對位平臺使用注意事項(xiàng)
對位平臺在選購時(shí),不要過于看重產(chǎn)品的某一兩項(xiàng)參數(shù),應(yīng)該對產(chǎn)品的整體特性進(jìn)行了解,并進(jìn)行一定檢驗(yàn)。例如光學(xué)對位平臺中的重要參數(shù)如平面度、平臺不平度、固有頻率、振幅、工作壓力 和負(fù)載等參數(shù)都要有詳細(xì)的了解并對其進(jìn)行檢測.這樣才可以根據(jù)產(chǎn)品的一些重要參數(shù)來選擇自己想要購買的光學(xué)平臺。
隨著研究機(jī)構(gòu)對光學(xué)對位平臺質(zhì)量要求和各大廠商對產(chǎn)品的不斷更新完善,目前社會(huì)市場中光學(xué)對位平臺款型繁多,質(zhì)量也參差不齊,所以在選購前,一定要確定自身對產(chǎn)品的使用需求和對產(chǎn)品的詳細(xì)了解。

隔振基礎(chǔ)部分可根據(jù)具體要求, 在我司產(chǎn)品三個(gè)系列中選用不同型號的隔振基礎(chǔ). 其中氣墊系列隔振處理后1.5-3Hz, 阻尼系列隔振處理后頻率4-6Hz。
調(diào)節(jié)支撐部分: 采用耐磨絲桿和平面推力球軸承, 使用時(shí)輕松可靠。
自動(dòng)平衡系統(tǒng): 采用空氣伺服系統(tǒng), 自動(dòng)調(diào)整水平. 它的突出特點(diǎn)是把系統(tǒng)對微振的響應(yīng)反饋到系統(tǒng)中, 改變隔振特性, 提高隔振效果, 在超載偏重的實(shí)驗(yàn)條件下, 瞬間達(dá)到初始的平衡狀態(tài)。
光學(xué)平臺使用時(shí)注意事項(xiàng)
1、 請勿用酸性液體清洗本產(chǎn)品,以免破壞產(chǎn)品表面質(zhì)量。
2、 請勿將本產(chǎn)品放置在高溫、潮濕及高強(qiáng)度振源處。
3、 請勿用水沖洗本產(chǎn)品。
4、 本產(chǎn)品長時(shí)間處于一種狀態(tài)下,請用水平儀調(diào)整臺面水平。
5、 工作臺面上擱置的任何設(shè)備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對磨擦,以避免損傷工作臺面,降低使用精度。
6、 工作臺面安裝孔,是用于固定設(shè)備的M6螺孔,使用時(shí)避免用力過大,影響工作臺精度。
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