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SiC晶圓激光快速退火系統(tǒng)

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更新時(shí)間：2022-01-02 11:00:43瀏覽次數(shù)：419

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

采用激光對(duì)重?fù)诫s SiC 表面沉積一種或幾種過(guò)渡金屬進(jìn)行合金化，精確控制激光能量和分布，形成良好的歐姆接觸。采用激光方式可忽略襯底正面結(jié)構(gòu)的影響，更好的與減薄工藝兼容，簡(jiǎn)化工藝流程，提高器件性能。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • · 支持薄片退火 · 優(yōu)秀的退火表面形貌和電學(xué)特征

  • · 10-5Ωcm2量級(jí)的比接觸電阻率

  • · 高效率、低成本控制

  • · I F 值提高 30% 以上 · 完整的全程監(jiān)控反饋功能


應(yīng)用產(chǎn)品類型

1-1.jpg

技術(shù)指標(biāo)

項(xiàng)目LA2540S LA2550S
晶圓尺寸4/6 Inch 兼容
典型掃描時(shí)間180 sec/p @4 inch90 sec/p @4 inch
激光能量密度≥ 5J/cm2
激光輸出穩(wěn)定性≤ 2%，RMS，4hrs
比電阻接觸率

≤ 10 -5Ωcm2

自動(dòng)傳片系統(tǒng)雙 LoadPort、多關(guān)節(jié)機(jī)器手、預(yù)準(zhǔn)直器

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