一直以來(lái)在科技領(lǐng)域相關(guān)我們國(guó)家的發(fā)展歷程，和發(fā)達(dá)國(guó)家對(duì)比起來(lái)我們國(guó)家一直都屬于一個(gè)弱勢(shì)的情況。

不過(guò)在這樣的一個(gè)情況之下，我國(guó)的科技領(lǐng)域可以說(shuō)一直都在尋找著攻克的方向，以求打破這樣的一個(gè)局面，某些方面雖然有著非常不錯(cuò)的發(fā)展，卻仍然還遭受到了美國(guó)對(duì)我國(guó)進(jìn)行的，但是近些年來(lái)我們已經(jīng)越來(lái)越強(qiáng)了。

特別在當(dāng)前幾乎大家對(duì)于我國(guó)的華為公司旗下所研發(fā)的一些產(chǎn)品應(yīng)該都不陌生，這也是我國(guó)非常大的一個(gè)公司，不過(guò)在這樣的情況之下，我國(guó)這一企業(yè)已經(jīng)多次受到影響，這也造成了極大的損失。

不過(guò)現(xiàn)在這樣的情況也并不都是出乎意料的，因?yàn)榫拖衿渌恍﹪?guó)家在一些高運(yùn)用技術(shù)上對(duì)我國(guó)都有著壟斷這樣的一個(gè)狀況，就更不用說(shuō)美方了。

之前在面對(duì)荷蘭公司的光刻機(jī)，我們國(guó)家就遭到了高價(jià)引進(jìn)，那在受到了這樣一個(gè)個(gè)問(wèn)題的情況之下，我國(guó)也立志要做到自主研發(fā)。

我們?cè)谶@些年做出的成果中，也得到了很大的成就，特別是現(xiàn)在我國(guó)又爆出消息，已經(jīng)突破了5nm光刻技術(shù)的瓶頸期，中科研再一次傳來(lái)的這個(gè)好消息，更是讓我國(guó)芯片的未來(lái)更加可期。

不得不說(shuō)，在今年已經(jīng)連續(xù)研發(fā)出光刻機(jī)，還有跟隨后的10nm米7nm光刻技術(shù)，這也都是我國(guó)的成功做出的一步步成就。

這一消息的傳出也更是讓其他國(guó)家對(duì)此更加震驚，畢竟我國(guó)之前光刻機(jī)仍然處于90納米的技術(shù)水平，與一些發(fā)達(dá)國(guó)家相比起來(lái)更是有著很大的差距。

也是因?yàn)樵谶@樣的一個(gè)情況之下，為了更好的不被其他國(guó)家進(jìn)行技術(shù)，以此我國(guó)對(duì)于半導(dǎo)體材料制備技術(shù)的研發(fā)也加強(qiáng)了步伐，最后對(duì)于5nm光刻技術(shù)的推廣并且這一技術(shù)成熟之后*可以直接用于我們的碳基芯片中，并且這使得下一個(gè)3nm節(jié)點(diǎn)的技術(shù)也有了更大的預(yù)期進(jìn)展。